Свой фоторезист для 7-нм техпроцесса создали в Китае

Китайские ученые создали свой материал для переноса рисунка схемы на кремний, избавившись от зависимости от импортных поставок.

Свой фоторезист для 7-нм техпроцесса создали в Китае

Созданием высокочувствительного фоторезиста для производства микросхем по 7-нанометровому техпроцессу провела китайская компания Jiangsu Nata Opto. Это материал, необходимый для переноса схемы чипа на кремниевую пластину. Ранее в стране изготавливали фоторезисты лишь для производственных норм 365 нм и выше, а более современные материалы закупали в США и Японии.

Чтоб не зависеть от импортных поставок, которые в нынешних условиях могут прекратиться в любой момент из-за санкций, китайское правительство решило производить собственные материалы, сообщает cnTechPost.

Однако пока вышла лишь первая пробная партия фоторезиста с нормами от 28 до 7 нм, ждать массовых поставок нужно будет еще около трех лет.

 

Фото: из открытых источников 

Подписывайтесь на наш Дзен-канал! Только персональные подборки новостей в новом digital-пространстве!

Подписывайтесь на наш канал в Яндекс.Чаты
Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта. Согласен