Китайская компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) выпустит в 2021 году сканер для иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV).
Материалы и технологии для оборудования будут только японскими и китайскими. Чтобы не зависеть от технологий США, установка будет создана по техпроцессу до 28 нм. Переход на этот техпроцесс для электронной китайской отрасли является огромным прорывом.
Компания SMIC недавно заявила, что запустит производство 8 нм. Но оборудование они используют от нидерландской компании ASML, которая зависит от комплектующих из Америки. Это значит, что США смогут в любой момент ввести санкции.
Фото: из открытых источников